[发明专利]用于低于200nm的平版印刷的基于金刚烷的分子玻璃光致抗蚀剂无效

专利信息
申请号: 200680052992.6 申请日: 2006-02-16
公开(公告)号: CN101390015A 公开(公告)日: 2009-03-18
发明(设计)人: 田中真治;克里斯托弗·K·奥伯 申请(专利权)人: 康奈尔研究基金会;出光兴产株式会社
主分类号: G03C1/73 分类号: G03C1/73;G03F7/20;G03F7/30
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 巫肖南
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了作为新型高效光致抗蚀剂物质的由含有缩醛和/或酯部分的金刚烷衍生物产生的玻璃光致抗蚀剂。所公开的一些基于金刚烷的抗蚀剂具有三足结构,所公开的其它基于金刚烷的抗蚀剂包括一个或多个胆酸基。所公开的金刚烷衍生物可由市售的原材料合成。仅作为例子,所公开的许多无定形玻璃光致抗蚀剂中的一种具有上述结构:GR-5金刚烷-1,3,5-三基三(氧基亚甲基)三胆酸酯。
搜索关键词: 用于 低于 200 nm 平版印刷 基于 金刚 分子 玻璃 光致抗蚀剂
【主权项】:
1. 一种光致抗蚀剂材料,其含有:包括金刚烷基、并且包括酯基或缩醛基中的至少一种的玻璃。
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