[发明专利]气体擦拭装置有效
申请号: | 200680054856.0 | 申请日: | 2006-12-19 |
公开(公告)号: | CN101460648A | 公开(公告)日: | 2009-06-17 |
发明(设计)人: | 李东垠;曹明钟;审判禹;金相俊 | 申请(专利权)人: | POSCO公司 |
主分类号: | C23C2/16 | 分类号: | C23C2/16 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 杨 勇;郑建晖 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种气体擦拭装置,是一种用于将熔融金属涂覆到钢带上的设备。在这种装置中,高压气体所供给到的室限定多级均匀压力空间。凸缘支撑单元与所述室的前部相关联以允许高压气体流过其中,所述凸缘支撑单元支撑所述装置来抵抗载荷。上和下凸缘与所述凸缘支撑单元相关联以共同限定一出口。与下凸缘共同调节气体出口的间隙的上凸缘,在稳定调节气体出口的间隙的同时能够容易地安装在凸缘支撑单元中。另外,能够防止钢带的边缘过涂覆(EOC),而不用设置额外的辅助喷嘴。同时,多级均匀空间由所述室和凸缘限定,从而允许高压气体响应于高压气体喷射曲线而更为均匀地喷射。这最终提高了钢带的涂覆质量。 | ||
搜索关键词: | 气体 擦拭 装置 | ||
【主权项】:
1. 一种气体擦拭装置,包括:高压气体所供给到的室,所述室限定多级均匀压力空间;凸缘支撑单元,其与所述室的前部相关联以允许所述高压气体流经其中,所述凸缘支撑单元支撑所述装置来抵抗载荷;以及上凸缘和下凸缘,其与所述凸缘支撑单元的前部相关联以共同限定一出口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
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C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物