[发明专利]光学滤片的锌基薄膜处理方法无效

专利信息
申请号: 200680054989.8 申请日: 2006-09-14
公开(公告)号: CN101467078A 公开(公告)日: 2009-06-24
发明(设计)人: R·蒂尔斯奇;T·伯梅;C·H·斯托塞尔;L·博曼 申请(专利权)人: 南壁技术股份有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 郭 辉
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种由包括金属层和介电层的迭层形成的光学滤片,带有至少一层由一片以上锌基薄膜定义的介电层。这些锌基薄膜含有不同百分比的锌。百分比的选择基于介电层中薄膜的位置而定。如果该锌基薄膜在形成金属层之前一刻其锌百分比的范围为80%至100%,则可获得出乎意料的低方块电阻。使锌基薄膜的百分比较接近于50%(25-75),则可使过程稳定及降低制作成本。通过在邻接金属层的介电层内提供铟基薄膜来进一步提高过程的稳定性。
搜索关键词: 光学 薄膜 处理 方法
【主权项】:
1. 一种提供光学滤片的方法,其包括以下步骤:在基片上形成迭层,使所述迭层包括金属层和介电层,包括通过以下步骤定义至少一层所述介电层;形成第一锌基薄膜,包括以下步骤:基于包含形成锌基薄膜的过程稳定性在内的因素,在所述第一锌基薄膜内选择第一锌百分比;以及形成第二锌基薄膜,包括以下步骤;基于包含建立随后形成的所述金属层的种子层的目标性能在内的因素,在所述第二锌基薄膜内选择第二锌百分比,所述第二百分比须大于所述第一百分比。
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