[发明专利]用离子有机硅组合物处理表面的方法有效

专利信息
申请号: 200680055267.4 申请日: 2006-08-22
公开(公告)号: CN101500716B 公开(公告)日: 2009-08-05
发明(设计)人: 普拉卡什·V·梅萨;阿杰伊·I·兰卡 申请(专利权)人: 西玛·A·兰卡
主分类号: B05D3/00 分类号: B05D3/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 宋莉
地址: 印度古*** 国省代码: 印度;IN
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摘要: 发明涉及用包括离子有机硅化合物的水性组合物处理无机表面的方法。出人意料的是,已经发现将水溶性离子有机硅化合物涂覆于无机表面使经处理的表面具有优异的疏水性质,所述水溶性离子有机硅化合物直至本发明仅少量使用以溶解硅烷。本发明仅采用离子有机硅化合物作为主要的或者唯一的组分以在无机基底的表面处理时赋予防水性。本发明的方法包括将离子有机硅化合物涂覆到无机表面从而赋予该基底耐水性。在涂覆后,经处理的表面可呈现出具有长期的防水性质的特征。
搜索关键词: 离子 有机硅 组合 处理 表面 方法
【主权项】:
1.一种处理无机表面的方法,包括向所述无机表面涂覆由至少一种离子有机硅化合物和水,以及任选的湿润剂、表面活性剂和抗菌剂组成的水溶液,所述离子有机硅化合物选自下式: 其中: Y是其中n的值为1-10的(CH2CH2O)nOH、或(CH3OCH2CH2O)、或(CH3CH2OCH2CH2O); a具有0、1和2的值; R′是甲基或乙基; R″是1-4个碳原子的亚烷基; R″′、R″″和Rv是含有1-22个碳原子的烷基且其中至少一个这种基团大于8个碳原子、-CH2C6H5、-CH2CH2OH、-CH2OH、和-(CH2)xNHC(O)Rvi,其中x具有2-10的值且Rvi是具有1-12个碳原子的全氟烷基;且 X为氯离子、溴离子、氟离子、碘离子、醋酸根或甲苯磺酸根; 其中所述无机表面具有将与通过硅烷烷氧基的水解产生的硅烷醇键合的官能团或反应性位点。 
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