[发明专利]化学气相沉积装置及方法无效
| 申请号： | 200680055853.9 | 申请日： | 2006-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN101511903A | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | 望月励;井上崇;上武一孝 | 申请（专利权）人： | 第三化成株式会社;吉世科有限公司 |
| 主分类号： | C08G61/02 | 分类号： | C08G61/02;C23C16/44 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张 萍;李炳爱 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种化学气相沉积装置，包括：填充气相沉积原料的填充部(10)；分解气相沉积原料的分解炉(2)；连结填充部(10)和分解炉(2)的开关阀(4)；使分解炉(2)中分解的气相沉积原料聚合，并在被沉积物的表面上形成涂膜的聚合部(3)，其中，使填充到填充部(10)的气相沉积原料汽化，通过打开开关阀(4)将所述汽化的气相沉积原料供应到分解炉(3)，形成涂膜。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
1. 化学气相沉积装置，其特征在于，包括：填充气相沉积原料的填充部；分解所述气相沉积原料的分解炉；连结所述填充部和所述分解炉的开关阀；和使所述分解炉中分解的气相沉积原料聚合，并在被沉积物的表面上形成涂膜的聚合部，使填充到所述填充部的气相沉积原料汽化，通过打开所述开关阀将所述汽化的气相沉积原料供应到所述分解炉，形成所述涂膜。
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