[发明专利]设置有干涉测量装置的工业机器无效
| 申请号： | 200680056547.7 | 申请日： | 2006-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN101583462A | 公开（公告）日： | 2009-11-18 |
| 发明（设计）人： | 科斯坦蒂诺·弗洛里奥;弗朗切斯科·梅扎佩萨;巴西利奥·韦肖;詹皮耶罗·内格里;詹卢卡·瓜达尼奥 | 申请（专利权）人： | 辛迪斯股份公司 |
| 主分类号： | B23Q17/22 | 分类号： | B23Q17/22;B23Q17/24 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 吴贵明 |
| 地址： | 意大*** | 国省代码： | 意大利;IT |
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| 摘要： | 本发明描述了一种工业机器(200)，包括：移动结构元件(2)，用于在机器(200)的相应操作构造中采用不同位置；第一参考轴线(a1)第二参考轴线(a2)之间的距离(d)的光电测量装置(11，12)，所述第二参考轴线与所述结构元件(2)相关联；其特征在于，所述光电测量装置(11，12)包括彼此光耦合且各自与其中一个所述参考轴线相关联的激光干涉仪(20)和测量反射靶(12)，所述激光干涉仪包括：用于向所述靶(12)发射直接电磁辐射的激光源、以及来自所述靶的反射激光辐射与从直接电磁辐射所获得的参考电磁辐射之间的干涉装置。 | ||
| 搜索关键词： | 设置 干涉 测量 装置 工业 机器 | ||
【主权项】：
1.一种工业机器(200)，包括：-移动结构元件(2)，用于在所述机器(200)的相应操作构造中采用不同位置；-第一参考轴线(a1)与第二参考轴线(a2)之间的距离(d)的光电测量装置(11，12)，所述第二参考轴线与所述结构元件(2)相关联；其特征在于，所述光电测量装置(11，12)包括彼此光耦合且各自与其中一个所述参考轴线相关联的激光干涉仪(20)和测量反射靶(12)，所述激光干涉仪包括：激光源，用于向所述靶(12)发射直接电磁辐射；以及来自所述靶的反射电磁辐射与从所述直接电磁辐射所获得的参考电磁辐射之间的干涉装置。
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