[发明专利]具有蚀刻停止层的端面蚀刻脊型激光器有效
| 申请号： | 200680056793.2 | 申请日： | 2006-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN101569067A | 公开（公告）日： | 2009-10-28 |
| 发明（设计）人： | A·A·贝法;C·B·斯塔盖瑞斯库;A·T·施雷默尔 | 申请（专利权）人： | 宾奥普迪克斯股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/00 | 分类号： | H01S5/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 侯颖媖 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光子器件包括外延结构，该外延结构具有有源区且包括在有源区之上但靠近有源区的湿法蚀刻停止层。通过先干法蚀刻再湿法蚀刻在该外延结构上制造端面蚀刻脊型激光器。干法蚀刻被设计成在到达形成脊所需的深度之前停止。湿法蚀刻完成脊条的形成并在湿法蚀刻停止层处停止。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 蚀刻 停止 端面 激光器 | ||
【主权项】：
1.一种光子器件，包括：衬底；包括所述衬底上的有源层和湿法蚀刻停止层的至少第一外延半导体结构；在所述结构中形成的蚀刻脊条，所述脊条具有在所述停止层处的底部；在所述结构中制造的至少第一蚀刻端面；以及在所述结构上的至少第一电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宾奥普迪克斯股份有限公司，未经宾奥普迪克斯股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200680056793.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
