[发明专利]表面处理装置有效
| 申请号： | 200680056849.4 | 申请日： | 2006-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN101568393A | 公开（公告）日： | 2009-10-28 |
| 发明（设计）人： | 杉浦裕;滨田良介;植村哲朗;中田英树 | 申请（专利权）人： | 上村工业株式会社 |
| 主分类号： | B05C3/08 | 分类号： | B05C3/08;B05C11/08;B08B3/02;C25D17/22 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 方晓虹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种表面处理装置，其特征在于，在一个装置主体(100)内包括：处理容器(11)、垂直转轴(12)、装拆机构、承接槽(15)、盖体(16)、多个箱(21)等、多个表面处理液供给机构(22)等、清洗水供给机构、排放机构(3)、第一清洗机构，在一边利用垂直转轴(12)使收容有小零件的处理容器(11)旋转一边使表面处理液供给机构动作时，对小零件进行表面处理，在使清洗水供给机构动作时，对处理容器(11)内的小零件进行清洗，在使第一清洗机构动作时，对盖体的内表面和/或处理容器的外表面进行清洗，循环使用箱内的表面处理液。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种表面处理装置，用于一边使收容有小零件的处理容器旋转一边对小零件进行表面处理，其特征在于，包括：处理容器，该处理容器具有使液体从内向外流出的液体流出机构，并能收容小零件；承接槽，该承接槽从下方围绕处理容器；盖体，该盖体设置成从上方封住承接槽，并在中央具有开口；表面处理液供给机构，该表面处理液供给机构将表面处理液朝处理容器内供给；以及清洗水供给机构，该清洗水供给机构将清洗水朝处理容器内供给，在一边使处理容器旋转一边使表面处理液供给机构动作时，朝处理容器内供给表面处理液并利用液体流出机构使表面处理液从处理容器流出，以对小零件进行表面处理，在一边使处理容器旋转一边使清洗水供给机构动作时，朝处理容器内供给清洗水并利用液体流出机构使清洗水从处理容器流出，以对小零件进行清洗，另外，还包括第一清洗机构，该第一清洗机构使清洗水朝盖体的内表面和/或处理容器的外表面喷出，在一边使处理容器旋转一边使第一清洗机构动作时，对盖体的内表面和/或处理容器的外表面进行清洗。
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