[发明专利]除去光致抗蚀剂残余物的pH缓冲含水清洁组合物和方法无效
| 申请号： | 200710002200.0 | 申请日： | 2007-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN101000469A | 公开（公告）日： | 2007-07-18 |
| 发明（设计）人： | A·吴;R·J·罗威托 | 申请（专利权）人： | 气体产品与化学公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/26;C11D7/00;C11D3/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 韦欣华;段晓玲 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种残余物清洁组合物，包括：(a)水；(b)氟化物；和(c)pH缓冲体系，其包括有机酸和碱。该有机酸可以是氨基烷基磺酸和/或氨基烷基羧酸。该碱可以是胺和/或氢氧化季烷基铵。该组合物基本上不含加入的有机溶剂并且pH范围为约5至约12。一种从基材除去残余物的方法，包括将该清洁组合物与残余物接触。一种限定图案的方法，包括将图案通过光致蚀刻剂蚀刻进入基材，加热具有图案的基材到足以灰化该光致蚀刻剂并且提供残余物的温度，且通过将残余物与所述清洁组合物接触而除去残余物。 | ||
| 搜索关键词： | 除去 光致抗蚀剂 残余物 ph 缓冲 含水 清洁 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于从基材除去残余物的组合物，所述组合物包括：(a)水；(b)至少一种氟化物；和(c)pH缓冲体系，其包括：(i)选自氨基烷基磺酸和氨基烷基羧酸的至少一种有机酸；和(ii)选自胺和氢氧化季烷基铵的至少一种碱，条件是该组合物基本上不含加入的有机溶剂并且pH范围为约5至约12。
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