[发明专利]非易失性存储器无效

专利信息
申请号: 200710003743.4 申请日: 2007-01-24
公开(公告)号: CN101232023A 公开(公告)日: 2008-07-30
发明(设计)人: 魏鸿基;毕嘉慧 申请(专利权)人: 力晶半导体股份有限公司;株式会社瑞萨科技
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L23/522
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种非易失性存储器,包括基底、多个NAND型存储单元区块、多个虚拟选择栅极线与多个阱区延伸结构。基底中设置有第一导电型阱区。多个NAND型存储单元区块设置于基底上,且在行方向上成镜像配置。NAND型存储单元区块各包括多个存储单元行、多条选择栅极线、多条源极线与多条位线。这些存储单元行配置成行/列阵列,在列的方向上每隔N行存储单元行(N为正整数)设置有两行虚拟存储单元行。每相邻两NAND型存储单元区块的源极线之间设置有两条虚拟选择栅极线。阱区延伸结构设置于两条虚拟选择栅极线之间的基底上,且位于虚拟位线下,并电连接虚拟位线与第一导电型阱区。
搜索关键词: 非易失性存储器
【主权项】:
1.一种具有阱区延伸结构的非易失性存储器,包括:基底,该基底中设置有第一导电型阱区;多个NAND型存储单元区块,设置于该基底上,且在行方向上成镜像配置,各个这些NAND型存储单元区块包括:多个存储单元行,这些存储单元行配置成行/列阵列,在列的方向上每隔N行存储单元行(N为正整数)设置有两行虚拟存储单元行,各个这些存储单元行包括:第二导电型源极区与第二导电型漏极区,设置于该第一导电型阱区中;两个选择晶体管,设置于该第二导电型源极区与该第二导电型漏极区之间的该基底上;以及多个存储单元,串联连接于两个选择晶体管之间;多条选择栅极线,设置于该基底上,在列方向平行排列,各条该选择栅极线电连接该选择晶体管;多条源极线,设置于该基底上,在列方向平行排列,各该源极线通过源极线插塞与该第二导电型源极区电连接;多条位线,设置于该基底上,在行方向平行排列并与该第二导电型漏极区电连接,其中分别连接这些虚拟存储单元行的这些位线作为虚拟位线;多个虚拟选择栅极线,在每相邻两个这些NAND型存储单元区块的这些源极线之间设置有两条虚拟选择栅极线;以及多个阱区延伸结构,设置于该两条虚拟选择栅极线之间的该基底上,且位于这些虚拟位线下方,并电连接这些虚拟位线与该第一导电型阱区。
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