[发明专利]光刻法有效
| 申请号： | 200710005302.8 | 申请日： | 2007-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN101086626A | 公开（公告）日： | 2007-12-12 |
| 发明（设计）人： | 梁辅杰;许林弘;陈俊光;高蔡胜;林本坚 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻法，以图案化位于一基板上的多个区域。所述光刻法包括利用一辐射束沿着一第一方向扫描一第一区域；然后步进至邻接于所述第一区域的一第二区域，且当所述第一区域和所述第二区域两者沿所述第一方向观看时，所述第二区域位于所述第一区域之后；然后利用所述辐射束沿着所述第一方向扫描所述第二区域。通过本发明中所给出的扫描方向以及步进动作中的步进移动值，可以降低或大体上消除在浸润式光刻法处理期间的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种光刻法，其用以图案化多个位于一基板上的区域，依序包括步骤：利用一辐射束沿一第一方向扫描一第一区域；步进至邻接于该第一区域的一第二区域，且当该第一区域和一第二区域沿该第一方向观看时，该第二区域位于该第一区域之后；以及利用所述辐射束沿该第一方向扫描该第二区域。
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