[发明专利]发光二极管装置及其制造方法无效
申请号: | 200710005491.9 | 申请日: | 2007-02-08 |
公开(公告)号: | CN101241958A | 公开(公告)日: | 2008-08-13 |
发明(设计)人: | 高旗宏;王宏洲;陈煌坤 | 申请(专利权)人: | 台达电子工业股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种发光二极管装置包括导热基板、第一半导体层、发光层以及第二半导体层。第一半导体层形成于导热基板之上,发光层形成于第一半导体层上,而第二半导体层形成于发光层上。其中第二半导体层的出光面具有多个台阶凸块。另外,本发明亦揭露一种发光二极管装置的制造方法。 | ||
搜索关键词: | 发光二极管 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种发光二极管装置,包括:导热基板;第一半导体层,形成于该导热基板之上;发光层,形成于该第一半导体层上;以及第二半导体层,形成于该发光层上,其中该第二半导体层的出光面具有多个台阶凸块。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台达电子工业股份有限公司,未经台达电子工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710005491.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。