[发明专利]带X射线光学光栅用于相位对比测量的焦点-检测器装置有效
申请号: | 200710007962.X | 申请日: | 2007-02-01 |
公开(公告)号: | CN101011255A | 公开(公告)日: | 2007-08-08 |
发明(设计)人: | 乔基姆·鲍曼;马丁·恩格尔哈特;乔尔格·弗罗伊登伯格;埃克哈德·亨普尔;马丁·霍海塞尔;托马斯·默特尔迈耶;斯蒂芬·波普斯库;曼弗雷德·舒斯特 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;G01N23/04;G01N23/20;G01N23/06;H05G1/02;H05G1/62;G01T1/28;G01T7/00;G21K1/06;G21K1/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 邵亚丽;李晓舒 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于产生检查对象的投影或断层造影的相位对比照片的X射线设备的焦点-检测器装置(F1,D),其中,所采用的焦点-检测器装置(F1,D)的至少一个光栅(G)至少部分地由一种宏观均匀的介质(13)组成,该介质通过超声波激发具有周期性的结构/驻波场,该结构在X射线束透过时导致射线分束或者形成干涉图形。 | ||
搜索关键词: | 射线 光学 光栅 用于 相位 对比 测量 焦点 检测器 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于产生检查对象的投影或断层造影的相位对比照片的X射线设备的焦点-检测器装置(F1,D),其组成至少如下:1.1.设置在检查对象(7,P)第一侧的具有用于产生射束(Si)的焦点(F1)的辐射源,1.2.在检查对象(7,P)的相对的第二侧在射线途径中设置的相位光栅(G1),该相位光栅产生一个在预定能量区域内的X射线辐射的干涉图形,以及1.3.分析检测系统(G2,D1),该分析检测系统至少检测由相位光栅(G1)产生的关于其强度分布的干涉图形,其特征在于,1.4.所述焦点-检测器装置的至少一个光栅(G)至少部分地由一种宏观均匀的介质(13)(光栅介质)组成,该介质具有通过超声波激发的周期性的结构变化,该结构变化在X射线束透过时导致干涉现象。
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