[发明专利]一种物理气相沉积设备与工艺

摘要

本发明涉及采用磁控溅射沉积纳米复合超硬涂层的一种物理气相沉积设备与工艺。本发明的设备，包括环状的真空腔体，其特征是在环状的真空腔体的内部，均匀依次依圆周分布有钛靶总成，铬靶总成，氮气体离化源，钛靶总成，铝靶总成，氩气体离化源。可利用上述设备进行物理气相沉积工艺，其工艺流程的步骤按如下顺序：a.将刀具清洗，干燥，装在基架上，抽真空到工艺要求，预热，开氩气轰击清洗；b.开铬靶电源，沉积铬层；c.沉积氮化铬层；d.同时打开钛靶与铝靶电源，沉积氮化铝钛，最后形成铬－氮化铬－氮化铝钛复合膜层。本发明结构简单，益于推广使用。

主权项

1、一种物理气相沉积设备，包括环状的真空腔体(1)，其特征是在所述的环状的真空腔体(1)的内部，均匀依次依圆周分布有钛靶总成(2)、铬靶总成(3)、氮气体离化源(4)、钛靶总成(5)、铝靶总成(6)、氩气体离化源(7)。