[发明专利]一种纳米叠层TiN梯度膜及其制备方法无效
| 申请号： | 200710011188.X | 申请日： | 2007-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN101298655A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 于志明;饶光斌;徐家寅;柯伟;李依依 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/32;C23C14/54 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110016辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及离子镀膜技术，具体为一种纳米叠层TiN梯度膜及其制备方法，解决工作温度低于600℃，由高温合金制成的汽车发动机阀门、飞机叶片等零部件的表面耐磨、耐腐蚀问题，以及常规TiN离子镀膜镀层易开裂问题。本发明利用离子镀膜技术在高温合金表面上沉积纳米叠层TiN梯度膜。其制备方法：首先除去合金表面上的油污，在有机溶剂中超声清洗；然后，将洗净的试样装卡在卡具上并置入离子镀膜设备的真空室内，抽真空到所需真空度并加热到一定的温度后通氩气进行离子轰击清洗；最后，在镀膜过程中通过调整蒸发源束流、负偏压以及氮气流量的变化，获得具有良好抑制镀层开裂性能的纳米叠层TiN梯度膜，其每层厚度为50－100纳米，镀膜总厚度在1.5－3.6微米范围内可调。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 tin 梯度 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种纳米叠层TiN梯度膜，其特征在于：该镀膜是在高温合金表面上沉积纳米叠层TiN梯度膜，获得的TiN梯度膜呈层状结构，纳米叠层TiN梯度膜每层厚度为50-100纳米，总厚度可在1.5-3.6微米范围内可调。
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