[发明专利]一种菱镁矿粉尘污染区坡地的植树法及树坑填充物无效

专利信息
申请号: 200710012470.X 申请日: 2007-08-15
公开(公告)号: CN101366354A 公开(公告)日: 2009-02-18
发明(设计)人: 姜勇;张玉革;李培军 申请(专利权)人: 中国科学院沈阳应用生态研究所
主分类号: A01G23/04 分类号: A01G23/04;A01B79/00;A01C21/00;C05B5/00
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 代理人: 张志伟
地址: 110016辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及植物栽培法,具体为一种菱镁矿粉尘污染区坡地的植树法及树坑填充物,解决菱镁矿粉尘污染坡地林木覆盖率较低,水土流失现象严重等问题。填充物为每坑添加有机物料50-80份、磷石膏5-10份、工业硫磺0.5-1.0份、缓释尿素或缓释复合肥0.5-1份,填充物重量占树坑土壤和填充物重量之和的5-15%。采用鱼鳞坑反坡阶整地,栽植坑为长40-60厘米、宽40-60厘米、深50-70厘米,利用置土或客土并与填充物混合进行坡地植树。本发明中树坑填充物价格低,无污染;植树法简单易行,具有提高树苗成活率及生长速度,修复土壤和植被,减少水土流失的功效。
搜索关键词: 一种 菱镁矿 粉尘 污染区 坡地 植树 填充物
【主权项】:
1.一种菱镁矿粉尘污染区坡地的植树法,其特征在于,采用鱼鳞坑反坡阶整地,挖坑时不同层次土壤分开堆放,表土与底土分开,无污染土壤备用;在挖掘好的树坑中先填入挖掘树坑时挖出的表土,然后将树坑填充物与原位挖出的无污染土壤或客土混合均匀填入树坑中,再填入底土或客土。
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