[发明专利]浮法冶金熔融析出杂质提纯生产太阳能多晶带硅无效

专利信息
申请号: 200710014959.0 申请日: 2007-06-20
公开(公告)号: CN101328605A 公开(公告)日: 2008-12-24
发明(设计)人: 张金学;曹军;高新忠 申请(专利权)人: 济南荣达电子有限公司
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C30B28/04;C01B33/037
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 250101山东省济南市高*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 一种浮法冶金融熔生长太阳能多晶带硅及杂质提纯方法,涉及光电产业及半导体产业的多晶硅制作。以高纯石墨坩埚为液槽,以Bi-Si融体为基本母液成分,采用真空电阻炉设备作为整个体系的升温装置,通过改变条件,调控调控微观硅晶体从母液中析出带硅,然后在惰性气体保护下采用激光退火、灯光退火、电子束退火、区熔退火等再结晶实验手段进行处理,改善晶体结构,促使晶粒长大。
搜索关键词: 冶金 熔融 析出 杂质 提纯 生产 太阳能 多晶
【主权项】:
1.一种浮法冶金融熔析出杂质提纯生产太阳能多晶带硅的方法,其特征在于该工艺包括:浮法冷凝带硅生长、浮法熔融杂质提纯、多晶带硅再结晶等三个方面。
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