[发明专利]一种无机-有机杂化两性离子对膜材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200710021240.X 申请日: 2007-04-15
公开(公告)号: CN101091878A 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: 刘俊生;程新星 申请(专利权)人: 合肥学院
主分类号: B01D71/00 分类号: B01D71/00;B01D71/82;B01D69/10;B01D69/12;C08J5/22
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 代理人: 余成俊
地址: 230022*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明一种无机-有机杂化两性离子对膜材料及其制备方法,其特征是在0-90℃的温度下,对杂化前驱体进行胺化反应使其含有一种阴离子交换基团,然后再进行磺化或氧化反应使其含有一种阳离子交换基团,即得到同时含有阴、阳离子交换基团的杂化两性离子对膜材料;或采用先对杂化前驱体进行磺化或氧化反应,然后再胺化的实验步骤。在该材料中阳离子交换基团排列在分子主链的两侧或分布在分子主链上,而阴离子交换基团始终位于分子主链上,与阳离子交换基团形成两性离子对结构;该材料的柔软性较好,耐温性较高,其阴、阳离子交换容量与制备工艺有关;它可以用作制备离子交换膜的材料,用于电解质与非电解质的分离、分级以及多价离子的选择性分离。
搜索关键词: 一种 无机 有机 两性 离子对 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种无机-有机杂化两性离子对膜材料制备方法,是在惰性气氛或空气中,以硅烷偶联剂和二醇反应,或以硅烷偶联剂与有机胺和二醇反应,生成的高分子胺类衍生物为原料,按摩尔比硅烷偶联剂与溶剂之比为1∶2~20,用溶剂溶解原料至得到含有杂化前驱体的溶液;其特征在于:在0-90℃的温度下,对上述制得的杂化前驱体进行胺化反应使其含有一种阴离子交换基团,然后再进行磺化或氧化反应使其含有一种阳离子交换基团,即得到同时含有阴、阳离子交换基团的无机-有机杂化两性离子对膜材料;或先对上述制得的杂化前驱体溶液进行磺化或氧化反应,使其含有一种阳离子交换基团,然后再进行胺化反应,使其含有一种阴离子交换基团,也得到同时含有阴、阳离子交换基团的无机-有机杂化两性离子对膜材料;所述原料硅烷偶联剂为含有氨烃基、芳基、环氧基或巯基的硅氧烷或卤硅烷,其化学式为 [XR1YR2]PSiX4-p,或[XYR1]pSiY″4-p,式中X、Y分别为伯胺、仲胺、芳基、巯基或环氧基团,R1和R2分别为含0-10和1-10个碳的烷基或芳基;Y″为1-5个碳的烷氧基或卤素;p的取值范围为1-3的整数;所述有机胺指:乙二胺、联苯胺、对苯二胺、二氨基二苯醚、N,N-二羟乙基甲胺、三甲胺、三乙胺、三丙胺或三丁胺;所述二醇指:乙二醇、丁二醇、己二醇、聚乙二醇或聚乙烯醇;所述高分子胺类衍生物指:聚氨酯、聚醚、聚酰胺、聚酰亚胺、聚硅氧烷与聚脲共聚物或聚硅氨酯;所述溶剂指:N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N,N-二甲基乙酰胺(DMAC)、四氢呋喃(THF)、二甲亚砜(DMSO)、正丁醇、异丁醇、四氯化碳、氯仿、苯或甲苯;所述溶剂溶解方法指:水解、胺解、醇解或开环反应;所述胺化反应是指在0-90℃的温度下,将上述杂化前驱体加入到过量卤代烃溶液中反应2-48小时,在分子链上得到阴离子交换基团;其摩尔比为杂化前驱体中胺基的含量∶卤代烃=1∶2-8;所述卤代烃指碘甲烷、溴乙烷、氯乙烷、1,2-二溴乙烷、1,2-二氯乙烷或它们的混合物;所述磺化反应是指在0-90℃的温度下,将分子链中的苯基、环氧基团转变成磺酸或亚磺酸基团;所用的磺化试剂指发烟硫酸、氯磺酸、焦硫酸或焦亚硫酸,及其焦硫酸或焦亚硫酸的盐;所述氧化反应是指将分子链中的巯基氧化形成磺酸或亚磺酸基团;所用的氧化剂指过氧化氢、高锰酸钾、重铬酸钾或次氯酸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥学院,未经合肥学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710021240.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top