[发明专利]选择性发射结晶体硅太阳电池的制备方法无效

专利信息
申请号: 200710025032.7 申请日: 2007-07-10
公开(公告)号: CN101101936A 公开(公告)日: 2008-01-09
发明(设计)人: 赵建华;王艾华;高鹏;王继磊;姚文杰;连维飞 申请(专利权)人: 中电电气(南京)光伏有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 南京知识律师事务所 代理人: 程化铭
地址: 211100江苏省南京*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种选择性发射结晶体硅太阳电池的制备方法,包括高浓度掺杂扩散,其特征在于:在晶体硅片的二氧化硅层上采用印刷工艺印刷腐蚀剂,腐蚀形成电极窗口,然后,在电极窗口区域在POCl3气氛中进行高浓度掺杂扩散。本发明方法采用印刷工艺印刷腐蚀剂腐蚀方式与传统的采用光刻技术在二氧化硅层上刻蚀出电极图形方法相比,设备投资低,生产效率高;克服了光刻技术具有的设备投资昂贵,生产效率低,大批量生产困难的缺陷。
搜索关键词: 选择性 发射 结晶体 太阳电池 制备 方法
【主权项】:
1、一种选择性发射结晶体硅太阳电池的制备方法,包括高浓度掺杂扩散,其特征在于:在晶体硅片的二氧化硅层上采用印刷工艺印刷腐蚀剂,腐蚀形成电极窗口,然后,在电极窗口区域在POCl3气氛中进行高浓度掺杂扩散。
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