[发明专利]新型抗反射导电膜

摘要

新型抗反射导电膜，有三种不同的具体结构，包含有高折射率层(H)、低折射率层(L)、和透明导电膜(T)、或/和中折射率层(M)；各层膜按照L/H/S/H/L/T型、或(L/H)²/S/(H/L)²/T型、或L/M/H/S/H/M/L/T型的规律排列，形成多层复合膜。本发明之新型抗反射导电膜的各膜层的厚度较小，可以简化生产工艺，适合连续批量的生产，特别是适合于生产大面积的抗反射导电膜。本发明可以广泛用做光学玻璃或透明塑料基材料上的抗反射导电膜，在液晶显示、阴极射线管、建筑玻璃、触摸屏面板、屏幕滤波器等得到广泛的应用。

主权项

1. 新型抗反射导电膜，其特征在于所述抗反射导电膜附着在透明基材(S)上，所述抗反射导电膜是至少包含有高折射率层(H)、低折射率层(L)和透明导电膜(T)，所述高折射率层(H)指波长在530nm-570nm时，折射率指数在2.1-2.4的膜层材料，所述低折射率层(L)指波长在530nm-570nm时，折射率指数在1.4-1.5膜层材料，所述透明导电膜(T)指波长在530nm-570nm时，折射率指数在1.85-1.95具有弱吸收的膜层材料，而且所述抗反射导电膜的结构是以下三种膜结构中的一种：第一种膜结构的特征在于：在透明基材(S)的两面由靠近透明基材(S)向外依次为高折射率层(H)，低折射率层(L)，其中一面的最外层为透明导电膜(T)；高折射率层(H)的厚度在5nm至30nm之间，低折射率层(L)的厚度在60nm至120nm之间，透明导电膜(T)的厚度在5nm至40nm之间，这种排列形式的膜结构记录为L/H/S/H/L/T型；第二种膜结构的特征在于：在透明基材(S)的两面由靠近透明基材(S)向外依次为高折射率层(H)，低折射率层(L)，高折射率层(H)，低折射率层(L)，且在透明基材(S)的一面的最外层为透明导电膜(T)，这种排列形式的膜结构记录为(L/H)2/S/(H/L)2/T型；组成这种9层复合膜的各膜层的厚度具有以下特征：第三种膜的排列结构中还包含中折射率层(M)，所述的中折射率层(M)是指波长在530nm-570nm时，折射率指数在1.6-1.7的膜层材料。第三种膜结构的特征在于：在透明基材(S)的两面由靠近透明基材(S)向外依次为高折射率层(H)，中折射率层(M)，低折射率层(L)，其中一面的最外层为透明导电膜(T)；高折射率层(H)的厚度在5nm至30nm之间，低折射率层(L)的厚度在60nm至120nm之间，中折射率层(M)的厚度在5nm至40nm之间，透明导电膜(T)的厚度在5nm至40nm之间，这种排列形式的膜结构记录为L/M/H/S/H/M/L/T型。