[发明专利]用于材料制备的化学气相沉积设备

摘要

本发明公开了一种材料制备的化学气相沉积设备。该设备由可相互独立激活源气体来沉积材料的热丝化学气相沉积激活部分和直流等离子体化学气相沉积激活部分共同组成；衬底支架相对热丝、或直流等离子体电极、或热丝和直流等离子体电极运动。

主权项

1、一种用于材料制备的化学气相沉积设备。为了将附加偏压的热丝化学气相沉积工艺和直流等离子体沉积工艺合并为一个整体，使得在低压环境下相关的材料制备工艺可以连续化和简单化，而不需要将样品在工艺的途中经过大气环境从一个真空室转移到另一个真空室；也使得附加偏压的热丝化学气相沉积和直流等离子体沉积两种工艺可以同时工作，组合成新的制备工艺。本发明的技术方案是在附加偏压的热丝化学气相沉积(CVD)现有设备的热丝的上面和下面分别增加一个直流等离子体的上电极平板和下电极平板。设备由供气系统、抽气系统、冷却系统、真空反应室、衬底支架、源气体激活装置和电控系统组成。其特征在于：在上述设备中，所述的直流等离子体装置与热丝等离子激活装置组成复合装置。源气体的激活由热丝激活部分和直流等离子体激活部分共同组成；直流等离子体激活部分，包含上下电极、电极冷却管道和对电极供电的直流电源。