[发明专利]一种羟基喜树碱长循环纳米粒及其制备方法无效
申请号: | 200710036426.2 | 申请日: | 2007-01-12 |
公开(公告)号: | CN101219144A | 公开(公告)日: | 2008-07-16 |
发明(设计)人: | 奉建芳;张乐乐;陈满仓;祝林;邹凌燕 | 申请(专利权)人: | 上海医药工业研究院 |
主分类号: | A61K31/4745 | 分类号: | A61K31/4745;A61K9/14;A61K47/34;A61P35/00 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 薛琦 |
地址: | 200040*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种新颖的羟基喜树碱长循环纳米粒,包含原料组分羟基喜树碱、丙交酯乙交酯共聚物PLGA、表面活性剂和膜修饰材料,其结构为羟基喜树碱包封于丙交酯乙交酯共聚物PLGA中,表面再被覆表面活性剂和膜修饰材料。本发明还公开了其制备方法。本发明的羟基喜树碱长循环纳米粒毒性较低、体内滞留时间长,溶液相中稳定性高,粒径小,且冻干后粒径无明显变化。本发明的制备方法可在羟基喜树碱稳定的条件下进行,避免药效的降低,且步骤简单、重复性好,易应用于工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 羟基 喜树碱 循环 纳米 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种羟基喜树碱长循环纳米粒,其特征在于:包含原料组分羟基喜树碱、丙交酯乙交酯共聚物PLGA、表面活性剂和膜修饰材料,其结构为羟基喜树碱包封于丙交酯乙交酯共聚物PLGA中,表面再被覆表面活性剂和膜修饰材料。
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