[发明专利]扫描曝光机校准度检测方法有效
| 申请号： | 200710036530.1 | 申请日： | 2007-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN101226338A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | 杨金坡;车越;邹超 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种扫描曝光机校准度检测方法，包括下列步骤：选定作为标准的扫描曝光机，并调整所述的标准扫描曝光机的传输系统的精度；使用所述的标准扫描曝光机在晶片上定义出预定的标记图形，并经刻蚀工艺加工后在晶片上形成立体标记图形；用待测扫描曝光机模拟加工所述的刻有标记的晶片；根据所述的待测扫描曝光机输出的加工结果报告中的偏差值与预定的偏差允许范围判断待测扫描曝光机的校准度。本发明解决了多台扫描曝光机校准不一致时的检测问题。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 曝光 校准 检测 方法 | ||
【主权项】：
1.一种扫描曝光机校准度检测方法，其特征在于包括下列步骤：选定作为标准的扫描曝光机，并调整所述的标准扫描曝光机的传输系统的精度；使用所述的标准扫描曝光机在晶片上定义出预定的标记图形，并经刻蚀工艺加工后在晶片上形成立体标记图形；用待测扫描曝光机模拟加工所述的刻有标记的晶片；根据所述的待测扫描曝光机输出的加工结果报告中的偏差值与预定的偏差允许范围判断待测扫描曝光机的校准度。
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