[发明专利]一种清洗液及其应用无效
| 申请号： | 200710038406.9 | 申请日： | 2007-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN101270325A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;杨春晓;王麟 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/32 | 分类号： | C11D7/32;H01L21/304;C11D7/18;C11D7/26 |
| 代理公司： | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种清洗液，其含有至少一种氧化剂，至少一种胍类化合物和水。本发明还公开了其在化学机械抛光后晶片清洗中的应用。本发明的清洗液可以较好地清洗化学机械抛光后晶片表面残留的研磨颗粒和化学物质，且金属离子含量低，无气味，可减少金属离子污染和环境污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 及其 应用 | ||
【主权项】：
1. 一种清洗液，其特征在于：含有至少一种氧化剂、至少一种胍类化合物和水。
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