[发明专利]多晶硅化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200710039245.5 | 申请日： | 2007-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN101280158A | 公开（公告）日： | 2008-10-08 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;杨春晓;王麟 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/18;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多晶硅的化学机械抛光液，其含有多元醇型非离子表面活性剂、胍类化合物、研磨颗粒和水。本发明的抛光液可以在碱性条件下较好地抛光多晶硅薄膜。其中，多元醇型非离子表面活性剂可显著降低多晶硅的去除速率，而不降低二氧化硅的去除速率，从而显著降低多晶硅与二氧化硅的选择比；胍类化合物也可调节多晶硅与二氧化硅的选择比，同时具有调节pH的作用，使得本发明的抛光液无需添加常规pH调节剂，大大减少了金属离子污染和环境污染。 | ||
| 搜索关键词： | 多晶 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1. 一种多晶硅的化学机械抛光液，其特征在于：含有多元醇型非离子表面活性剂、胍类化合物、研磨颗粒和水。
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