[发明专利]一种阴离子为卤族离子的离子液体的制备方法无效
申请号: | 200710039356.6 | 申请日: | 2007-04-11 |
公开(公告)号: | CN101092399A | 公开(公告)日: | 2007-12-26 |
发明(设计)人: | 张玉梅;王华平;张红燕;刘崴崴;王强华 | 申请(专利权)人: | 东华大学 |
主分类号: | C07D233/58 | 分类号: | C07D233/58;C07D231/12;C07D213/20;C07C211/63;C07C215/40;C07F9/54 |
代理公司: | 上海泰能知识产权代理事务所 | 代理人: | 黄志达;谢文凯 |
地址: | 201620上海市松*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种阴离子为卤族离子的离子液体的制备方法,包括步骤:(1)将摩尔比为1∶1.0~1∶1.05的化合物(I)与卤化烃(II)在常温下均匀混合;(2)加入反应釜中,压力0.105~0.25MPa,室温~150℃,时间0.5~20小时,反应结束后,释放釜内压力至常压,冷却,用1/5~4/5体积的乙酸乙酯萃取2~3次,40~80℃减压蒸馏纯化。该方法反应速率快,时间短,成本低,对环境友好。所制备的离子液体,可以作为有机反应、聚合反应的溶剂,也可以用于化工分离以及电化学领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 阴离子 卤族 离子 液体 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种阴离子为卤族离子的离子液体的制备方法,包括下列步骤:(1)将摩尔比为1∶1.0~1∶1.05的化合物(I)与卤化烃(II)在常温下均匀混合;(2)加入反应釜中,压力0.105~0.25MPa,室温~150℃,时间0.5~20小时,反应结束后,释放釜内压力至常压,冷却,用1/5~4/5体积的乙酸乙酯萃取2~3次,40~80℃减压蒸馏纯化。所述的化合物(I)选自下列化合物中的一种:烃基季铵 羟乙基烃基季铵 烃基锍 烃基季磷烃基吡啶 烃基吡咯 烃基吡唑 烃基咪唑其中:R1,R2,R3,R4,R5和R6可以相同,也可以不同,它们分别是H或碳原子数为1-8的烃基。所述的卤化烃(II)的通式为R-X:其中:R是碳原子数为1-8的烃基,X是Cl、Br中的一种。
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