[发明专利]射频功率源系统及使用该射频功率源系统的等离子体反应腔室有效

专利信息
申请号: 200710039453.5 申请日: 2007-04-13
公开(公告)号: CN101287327A 公开(公告)日: 2008-10-15
发明(设计)人: 陈金元;尹志尧;钱学煜;倪图强;饭塚浩 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)有限公司
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46;H05H1/30
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 王洁
地址: 201201上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种应用于等离子体反应腔室上的射频功率源,采用频率合成或射频信号振荡器方式产生N个射频信号,并通过宽带功率放大器将该N个射频信号功率加以放大,随后分离该经过放大的信号。于是射频系统的输出是具有多种频率的射频功率。可选地,这些频率是可以切换的,这样使用者就可以选择射频功率源系统所输出的频率。本发明进一步公开了一种使用该射频功率源的等离子体反应腔室。
搜索关键词: 射频 功率 系统 使用 等离子体 反应
【主权项】:
1. 一种射频功率源系统,包括:输出具有N个频率的N个射频信号的射频源,其中N是大于1的整数;合成该N个射频信号的射频功率合成器,以输出一个合成的射频信号;放大该合成的射频信号的宽带放大器,以提供一个经过放大的射频信号;接收该经过放大的射频信号的射频功率分离器,以提供具有N个频率的N个经过放大的射频功率信号。
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