[发明专利]一种非破坏性检测衬底表面形貌的方法有效

专利信息
申请号: 200710041037.9 申请日: 2007-05-22
公开(公告)号: CN101312138A 公开(公告)日: 2008-11-26
发明(设计)人: 庄燕萍;邹永祥;张轲;王鹢奇 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;G01B21/20
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 王洁
地址: 2012*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种非破坏性检测衬底表面形貌的方法。现有技术需破坏衬底才能检测到衬底的表面形貌。本发明的方法先提供平坦衬底、厚度预选范围及具有特定图形的光罩,且在该平坦衬底上分别涂敷选自厚度预选范围的不同厚度的光阻,再使用该光罩光刻出该特定图形;然后测得该不同厚度的光阻所对应的该特定图形的特征尺寸;接着依据测得的特征尺寸及其对应的光阻厚度绘制出两者的关系曲线图且将其储存在数据库中;之后在待测的衬底上涂敷预选厚度范围中一选定厚度的光阻,再使用一具有多个该特定图形的光罩光刻出该多个特定图形;最后检测该特定图形的特征尺寸并依据数据库中的数据得出该待测衬底的表面形貌。采用本发明的方法可对衬底进行非破坏性的检测。
搜索关键词: 一种 破坏性 检测 衬底 表面 形貌 方法
【主权项】:
1、一种非破坏性检测衬底表面形貌的方法,该衬底表面具有凸起结构及/或凹陷结构,其特征在于,该方法包括以下步骤:(1)提供一平坦衬底、一厚度预选范围以及一具有特定图形的光罩,在该预选范围中选取不同的厚度且在该平坦衬底上分别涂敷所选厚度的光阻,再使用该光罩在该光阻上光刻出该特定图形;(2)测得该不同厚度的光阻所对应的该特定图形的特征尺寸;(3)依据测得的特征尺寸及其对应的光阻厚度绘制出光阻厚度与特征尺寸的关系曲线图,并将该曲线图储存在一数据库中;(4)在待测的衬底上涂敷预选厚度范围中一选定厚度的光阻,再使用一具有多个该特定图形的光罩在该光阻上光刻出该多个特定图形;(5)测得该多个特定图形的特征尺寸;(6)依据所测得的特征尺寸以及数据库中所储存的曲线图得出该待测衬底的表面形貌。
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