[发明专利]化学气相沉积设备及炉管有效
| 申请号： | 200710041091.3 | 申请日： | 2007-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN101311302A | 公开（公告）日： | 2008-11-26 |
| 发明（设计）人： | 李春龙;赵星;赵金柱;李修远 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00;H01L21/205;H01L21/365 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李文红 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学气相沉积设备，包括沉积室，所述沉积室开有至少一个排气口和至少一个进气口，其中，所述排气口的表面与沉积室的内壁表面圆滑相连。本发明还公开了一种炉管，该炉管的排气口的表面与炉管的内壁表面圆滑相连。本发明的化学气相沉积设备及炉管，可以降低排气口处沉积物脱落的可能性，改善化学气相沉积室内的颗粒污染问题，提高了产品质量，减少了对沉积室进行湿法清洁的次数，提高了设备的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 设备 炉管 | ||
【主权项】：
1、一种化学气相沉积设备，包括沉积室，所述沉积室开有至少一个排气口和至少一个进气口，其特征在于：所述排气口的表面与所述沉积室的内壁表面圆滑相连。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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