[发明专利]掩模版装载工艺有效
| 申请号： | 200710041623.3 | 申请日： | 2007-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN101067727A | 公开（公告）日： | 2007-11-07 |
| 发明（设计）人： | 沈锦华;张方元;杨锋力 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种掩模版装载工艺，属于光刻领域。现有的掩模版装载工艺在运作过程中，存在对准误差大、需要多次重复校准精度、装载效率低等缺点。本发明的掩模版装载工艺，用于将掩模版精确装载至光刻机的掩模版承载台上，所述的光刻机具有掩模传输系统和掩模台系统，所述的掩模台系统包括掩模版承载台和微动台，该掩模版装载工艺包括下列流程：(1)版库取版；(2)粗预对准；(3)掩模版交接；(4)精细预对准。采用本发明可使整个掩模版装载工艺的精度达到：x向±1um，y向±1um，rz向±0.05mrad。同时，精细预对准的次数从传统的3－5次降低到1次就能够达到预对准精度，大大提高了预对准效率，提高生产率。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 装载 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种掩模版装载工艺，用于将掩模版精确装载至光刻机的掩模版承载台上，所述的光刻机具有掩模传输系统和掩模台系统，所述的掩模台系统包括掩模版承载台和微动台，其特征在于，所述的掩模版装载工艺包括下列流程：(1)版库取版；(2)粗预对准；(3)掩模版交接；(4)精细预对准。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710041623.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种速热电外加热磁化饮水机
- 下一篇：弧形太阳能热水器
