[发明专利]稀土离子或过渡金属离子掺杂的铝镁酸钪荧光衬底无效
申请号: | 200710042039.X | 申请日: | 2007-06-15 |
公开(公告)号: | CN101070472A | 公开(公告)日: | 2007-11-14 |
发明(设计)人: | 董永军;唐慧丽;徐军;吴锋;周国清 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | C09K11/77 | 分类号: | C09K11/77;H01L33/00 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种稀土离子或过渡金属离子掺杂的铝镁酸钪荧光衬底,该荧光衬底是:在铝镁酸钪基质晶体中掺杂稀土离子取代钪离子Sc3+或过渡金属离子取代铝或镁离子,作为发光中心位于氧离子形成的八面体中心而构成的。该荧光衬底制备方法可为提拉法、温度梯度法、坩埚下降法、热交换法或浮区法。利用本发明制备的荧光衬底制备白光发光二极管的优点是提高了器件发光性能的稳定性,有效地简化白光发光二极管的制备工艺,降低制造成本和提高白光发光二极管的发光效率。 | ||
搜索关键词: | 稀土 离子 过渡 金属 掺杂 铝镁酸钪 荧光 衬底 | ||
【主权项】:
1、一种稀土离子或过渡金属离子掺杂的铝镁酸钪荧光衬底,其特征在于该荧光衬底是:在铝镁酸钪基质晶体中掺杂稀土离子Re3+作为发光中心取代钪离子Sc3+,位于氧离子形成的八面体中心,其结构式为:Re3+ x:Sc(1-x)AlMgO4,其中x的取值范围为:1%≤x≤5%;或在铝镁酸钪基质晶体中掺杂过渡金属离子TM(2~6)+作为发光中心取代铝或镁离子,位于氧离子形成的六面体中心,化学式为:xTM:ScAlMgO4,其中掺杂过渡金属氧化物占基质料的质量比x的取值范围为:1%≤x≤10%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710042039.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种含钒石煤钠化焙烧烟气净化方法
- 下一篇:甲醛吸收方法及系统