[发明专利]一种合成高对映选择性醛基取代小环胺类化合物和光学活性3－位取代内酰胺类化合物的方法

摘要

本发明提供了由消旋的醛基取代的小环胺类化合物高效高对映选择性的合成手性醛基取代的小环胺类化合物，同时合成有一定光学活性的3－位取代内酰胺类化合物的方法。与现有方法相比，该方法可适底物范围广，催化剂方便易得，反应条件温和，操作简便，而且反应效率高。而且该方法无需加入任何金属盐类化合物，从而有利于药物的生产和处理。

主权项

1.一种合成高对映选择性醛基取代小环胺类化合物和一定光学活性3-位取代内酰胺类化合物的方法，其特征是在有机溶剂的存在下和-78℃～50℃下，以消旋的醛基取代β-内酰胺类化合物为原料，以手性氮杂环卡宾前体盐与碱作用生成的手性氮杂环卡宾作为催化剂，通过核磁等跟踪反应，控制反应转化率在50％时，淬灭反应，可同时制得高对映选择性的醛基取代β-内酰胺类化合物和一定光学活性的3-位取代的内酰胺化合物；所述的消旋的醛基取代小环胺类化合物、手性氮杂环卡宾前体盐或手性氮杂环卡宾、碱的摩尔比为1∶0.01-0.2∶0-0.2；所述的消旋的醛基取代小环胺类化合物胺结构式为所述的手性氮杂环卡宾的前体盐具有如下结构式：所述的手性氮杂环卡宾具有如下结构式：所述的碱是三乙胺、1，8-二氮杂二环[5，4，0]十一碳-7-烯、1，5-二氮杂二环[4，3，0]壬-5-烯、碳酸铯、磷酸钾、二(三甲基硅基)氨基钠、二(三甲基硅基)氨基锂、二(三甲基硅基)氨基钾、叔丁醇钾、叔丁醇钠或者二异丙基乙基胺；其中R¹或R²任意选自H，C₁-C₁₆的烷基、C₃-C₁₆的环烷基、氨基或取代的胺基、烷氧基或者卤素原子；R¹或R²可以单独成键或者相互成键；R³任意选自酰基、C₅～C₁₀的含N、O或S的杂环基或者杂芳基、取代的芳基或者C₁-C₁₆的烷基；X为羰基或者n＝0，1，2；R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹、R¹⁰、R¹¹、R¹²、R¹³、R¹⁴、R¹⁵、R¹⁶或R¹⁷为H、C₁-C₁₆的烷基、C₅～C₁₀的含N、O或S的杂环基、芳基或取代芳基；各取代基可单独成键或者相互成键形成C₅-C₇的环烷基、芳基、取代芳基、含N、O、S的杂芳基或杂环烷基；所述取代的芳基上的取代基为烷基、烷氧基碳数为1～18；取代的胺基上的取代基为C₁-C₁₆的烷基、芳基、取代芳基或者C₅～C₁₀的含N、O或S的杂环芳基或者杂环烷基；A¹、A²、A³或、A⁴任意为Cl^-、Br^-、BF₄^-或ClO₄^-；所述的烷基、烃氧基或酰基的碳数为1～18；所述的芳基是苯基、C₅～C₁₀的含N、O或S的杂环基或C₅～C₁₀的含N、O和S的杂芳基。