[发明专利]一种纳米结构套刻的模板设计和实现方法无效
| 申请号： | 200710044607.X | 申请日： | 2007-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN101364043A | 公开（公告）日： | 2009-02-11 |
| 发明（设计）人： | 刘彦伯;钮晓鸣;宋志棠;闵国全;周伟民;李小丽;刘波;张静;万永中;封松林 | 申请（专利权）人： | 上海市纳米科技与产业发展促进中心;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200237上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种纳米结构套刻的模极设计和实现方法，属于微纳电子领域。其特征在于将不同层结构定义在同一块模板上，通过特定的改变模板与基底相对位置，重复使用来实现多层纳米结构的套刻。这种方法不需要配置精密对准系统就可实现纳米级套刻。传统的套刻技术采用精密对准和多块模板，面对纳米级线宽加工需求，定位对准系统和光刻模板的成本越来越高。即使对于纳米压印这些新型的微纳加工技术，由于技术本身尚处研发，设备本身匮乏定位能力，对准和模板同样是研发的瓶颈问题。本发明提出的方法，不仅可以节约多层纳米结构加工研发成本，提高研发效率，而且可以有效解决纳米级结构套刻难题，具有研发实用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 结构 模板 设计 实现 方法 | ||
【主权项】：
1.一种纳米结构套刻的模板设计和实现方法，其特征在于：(1)对称性模板版图设计；(2)调整模板与基底相对位置；(3)对准套刻；(4)加工下一层结构。
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