[发明专利]引线框架及其制造方法,半导体器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200710044632.8 申请日: 2007-08-05
公开(公告)号: CN101359599A 公开(公告)日: 2009-02-04
发明(设计)人: 张启华;吴波;廖炳隆;颜金国 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L23/495;H01L21/50
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 逯长明
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种引线框架及其制造方法。所述引线框架包括:引线框架基体、连接至所述引线框架基体的引线,和贴附于所述引线的胶带,所述引线避开半导体芯片表面的金属区域排布,所述胶带根据所述引线的排布分段贴附于引线,以避开所述半导体芯片表面的金属区域。本发明还公开了一种使用该引线框架的半导体器件及其制造方法。由于贴附在引线和半导体芯片间的胶带不会覆盖半导体芯片表面的金属区域,因此,即使引线框架的胶带吸附有酸性离子,也不会腐蚀到半导体芯片的金属区域,因而也不会影响半导体芯片的可靠性。
搜索关键词: 引线 框架 及其 制造 方法 半导体器件
【主权项】:
1.一种引线框架的制造方法,其特征在于,包括下述步骤:形成引线框架基体和连接至所述引线框架基体的引线,所述引线避开半导体芯片表面的金属区域排布;根据所述引线的排布分段贴附胶带于所述引线,以避开所述半导体芯片表面的金属区域。
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