[发明专利]液晶显示装置阵列基板的制造方法无效
| 申请号： | 200710047745.3 | 申请日： | 2007-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN101424844A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 秦锋;李小和 | 申请（专利权）人： | 上海广电NEC液晶显示器有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G03F7/00;G03F1/00;H01L27/12;H01L21/77;H01L21/027;H01L21/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 薛 琦 |
| 地址： | 201108上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种液晶显示装置阵列基板的制造方法，其主要包括在玻璃基板上形成栅极导电层、第一绝缘层、有源层、第二绝缘层、数据导线层、像素电极层，且通过三张掩膜版完成液晶显示装置阵列基板的制造。与传统工艺相比，本发明方法减少了工艺步骤从而节约了生产时间，且降低了掩膜版对位上的偏差，提高了产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶 显示装置 阵列 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种液晶显示装置阵列基板的制造方法，其特征在于，它包括以下步骤：步骤1，在洁净玻璃基板上沉积栅极导电层、第一绝缘层、有源层，再涂布一层光刻胶，利用第一掩膜版进行曝光、显影，再蚀刻形成栅极配线及栅电极，然后进行第一次灰化，第一次灰化后进行蚀刻得到栅极区域和晶体管区域导电层；步骤2，在完成步骤1的基板上依次沉积数据导线层、第二绝缘层、然后涂布一层光刻胶；采用第二块掩膜版进行曝光、显影，再蚀刻去除数据线区域、其它区域、晶体管区域的光刻胶和数据导线层，然后进行第二次灰化，第二次灰化后进行蚀刻露出栅极区域和数据线区域的数据导线层；步骤3，在完成步骤2的基板上沉积像素电极层，并在像素电极层上涂布第三层光刻胶，利用第三块掩膜版进行曝光、显影，再蚀刻形成像素电极。
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