[发明专利]制取透明功能薄膜的三元金属氧化物陶瓷靶材的制备工艺无效
申请号: | 200710048001.3 | 申请日: | 2007-11-08 |
公开(公告)号: | CN101182198A | 公开(公告)日: | 2008-05-21 |
发明(设计)人: | 刘延辉;冯海斌;周细应 | 申请(专利权)人: | 上海工程技术大学 |
主分类号: | C04B35/46 | 分类号: | C04B35/46;C04B35/50;C04B35/14;C04B35/622 |
代理公司: | 上海三方专利事务所 | 代理人: | 吴干权 |
地址: | 201620上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明属于光电材料技术领域,具体地说是一种制取透明功能薄膜的三元金属氧化物陶瓷靶材的制备工艺,其特征在于:由重量百分比为10%~50%的氧化钛,0%~60%的氧化铈,0%-55%氧化硅的三种金属氧化物粉体做为原料粉,并在原料粉中加入占原料粉总重量1%~5%的粘结剂,混合均匀后,用冷压机压制成溅射靶材坯体,然后在常压、常气氛下将坯体高温烧结成陶瓷靶材。与现有技术相比,本发明工艺简单,制备出的靶材可在白色玻璃上通过磁控溅射制备具有防紫外线和疏水性能的透明薄膜。 | ||
搜索关键词: | 制取 透明 功能 薄膜 三元 金属 氧化物 陶瓷 制备 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种制取透明功能薄膜的三元金属氧化物陶瓷靶材的制备工艺,其特征在于:由重量百分比为10%~50%的氧化钛,0%~60%的氧化铈,0%-55%氧化硅的三种金属氧化物粉体做为原料粉,并在原料粉中加入占原料粉总重量1%~5%的粘结剂,混合均匀后,用冷压机压制成溅射靶材坯体,然后在常压、常气氛下将坯体高温烧结成陶瓷靶材。
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