[发明专利]一种纳米复合类金刚石涂层制备方法无效
申请号: | 200710053095.3 | 申请日: | 2007-08-31 |
公开(公告)号: | CN101113516A | 公开(公告)日: | 2008-01-30 |
发明(设计)人: | 杨兵;丁辉;付德君 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/27;C23C16/448;C23C16/52;C23C16/22 |
代理公司: | 武汉天力专利事务所 | 代理人: | 程祥;冯卫平 |
地址: | 43007*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种纳米复合类金刚石涂层制备方法,利用磁场控制的阴极电弧放电,通入乙炔气体使金属靶前乙炔过量,靶面形成金属碳化物层,当电弧运动时从靶面蒸发出金属碳化物,此外电弧靶前方在辅助磁场作用下利用电弧放电产生的强等离子体离化乙炔气体,产生高度离化的碳离子,在偏压的作用下,从靶面蒸发的金属碳化物和乙炔产生的碳离子在工件表面形成碳化物掺杂纳米复合类金刚石涂层。本发明制备类金刚石涂层具有涂层硬度高、附着力强、涂层生长速率快、生产效率高、生产成本低、涂层设备结构简单等特点,根据使用要求可在硬质合金、高速钢、不锈钢、碳钢、模具钢等各类工件上进行不同厚度类金刚石涂层的制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 复合 金刚石 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种纳米复合类金刚石涂层制备方法,其特征在于:放置于真空室中的工件经辉光放电清洗后,在0.1~3 Pa、-50~-150V偏压的条件下利用磁场控制的金属靶电弧放电制备金属过渡层;然后通入乙炔气体,乙炔和金属靶表面发生反应形成金属碳化物,当电弧在靶面运动时,从靶面蒸发出金属碳化物;利用靶表面电弧放电产生的强等离子体离化乙炔气体,产生高度离化的碳离子;从靶面蒸发的金属碳化物和乙炔产生的碳离子在工件表面形成碳化物掺杂纳米复合类金刚石涂层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的