[发明专利]一种中大口径非球面光学元件的高效数控抛光工艺及设备无效
| 申请号： | 200710055351.2 | 申请日： | 2007-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN101088705A | 公开（公告）日： | 2007-12-19 |
| 发明（设计）人： | 聂凤明;许乔;崔文波;吴庆堂;王健;王大森;闫晓丽;张广平;胡宝共;李焕东;郭波;张维杰;修冬;田晓欢;刘劲松 | 申请（专利权）人： | 长春设备工艺研究所 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00 |
| 代理公司： | 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 | 代理人： | 纪尚 |
| 地址： | 130012*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 一种中大口径非球面光学元件的高效数控抛光工艺及设备，属于光学精密机械技术领域，其抛光工艺是：根据干涉仪等光学表面面形检测仪器测得的面形数据，构成抛光加工过程的模型，在计算机的控制下，按实际加工元件的技术要求确定路径、速度和压力等参数，进行仿真加工，验证选择的工艺参数，当仿真结果与实际要求的抛光表面相一致时确定最终的工艺参数，然后生成NC程序，进行加工；有益效果是：相比同加工阶段的手工加工方法，加工过程减少了对人员经验的依赖，效率提高3倍以上，加工精度达到国际先进水平。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 口径 球面 光学 元件 高效 数控 抛光 工艺 设备 | ||
【主权项】：
1、一种中大口径非球面光学元件的高效数控抛光工艺，其抛光工艺是：根据干涉仪等光学表面面形检测仪器测得的面形数据，通过软件CCOS2进行分析，选择适合的抛光参数，构成抛光加工过程的模型，在计算机的控制下，按实际加工元件的技术要求确定路径、速度和压力等参数，进行仿真加工，验证选择的工艺参数，当仿真结果与实际要求的抛光表面相一致时确定最终的工艺参数，然后生成NC程序，进行加工；通过控制小抛光模在工件表面的驻留时间及压力，精确控制工件表面的去除量，获得要求的面形。
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