[发明专利]一种多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法无效
| 申请号： | 200710063397.9 | 申请日： | 2007-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN101219429A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | 童翔 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/12;B08B7/04;B08B1/00;F26B5/00;F26B3/02;C11D7/50;H01L21/00;H01L21/3065;C11D7/02 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵镇勇;郭宗胜 |
| 地址： | 100016北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法，其核心是先用去离子水清洗石英零件表面，并用洁净的高压气体吹干石英零件的表面；其次用至少一种有机溶剂清洗石英零件表面；再次用碱性溶液清洗石英零件表面；随后用至少一种酸性溶液清洗石英零件表面；最后对石英零件进行超声波清洗。达到去除石英零件表面的沉积物的目的。应用此方法对半导体工艺一段时间后的多晶刻蚀腔室中石英零件清洗后，石英零件表面的污染物完全被除去，且石英零件表面没有遭到损伤，清洗后的石英零件完全满足正常工艺的要求，达到清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多晶 刻蚀 腔室中 石英 零件 表面 清洗 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法，其特征在于，包括以下过程：A、用至少一种有机溶剂清洗石英零件表面；B、用碱性溶液清洗石英零件表面；C、用至少一种酸性溶液清洗石英零件表面；D、对石英零件进行超声波清洗。
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