[发明专利]具有镍酸锂缓冲层的外延钛酸锶铅薄膜及制备方法无效

专利信息
申请号: 200710068448.7 申请日: 2007-04-30
公开(公告)号: CN101122048A 公开(公告)日: 2008-02-13
发明(设计)人: 杜丕一;李晓婷;翁文剑;韩高荣;赵高凌;沈鸽;徐刚;张溪文 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C30B29/32 分类号: C30B29/32;C30B23/02
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 林怀禹
地址: 310027浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种具有镍酸锂缓冲层的外延钛酸锶铅薄膜及制备方法。在MgO基板的一面沉积一层缓冲层导电电极LNO薄膜,在缓冲层导电电极LNO薄膜上再沉积一层钙钛矿相PST薄膜。其步骤如下:首先以碳酸锂,氧化镍,碳酸铅,碳酸锶,氧化钛为原料,用固相烧结法分别制备镍酸锂靶材和钛酸锶铅靶材;其次将(001)MgO基板清洗后放入反应室,反应室抽真空,并加热基板,以氧气为保护气体,引入反应室中,脉冲激光溅射靶材,在基板上先后外延沉积镍酸锂缓冲层和钛酸锶铅薄膜。本发明制备方法简单,制得的钛酸锶铅薄膜外延性好,质量高,薄膜的介电可调性可达40%到70%。
搜索关键词: 具有 镍酸锂 缓冲 外延 钛酸锶铅 薄膜 制备 方法
【主权项】:
1.一种具有镍酸锂缓冲层的外延钛酸锶铅薄膜,其特征在于:在MgO基板(1)的一面上沉积一层缓冲层导电电极LNO薄膜(2),在缓冲层导电电极LNO薄膜(2)上再沉积一层钙钛矿相PST薄膜(3)。
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