[发明专利]聚碳酸酯光学材料表面有机硅耐磨涂层的制备方法无效
| 申请号： | 200710068478.8 | 申请日： | 2007-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN101051092A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | 单国荣;梁志超 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G02B1/04 | 分类号： | G02B1/04;G02B1/10;G02B1/00;C09D183/04 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 | 代理人： | 胡红娟 |
| 地址： | 310027*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种聚碳酸酯光学材料表面有机硅耐磨涂层的制备方法，包括如下步骤：(1)基底涂层的涂覆，将基底涂料在洁净环境中涂覆于聚碳酸酯光学材料表面，20～100℃下干燥2～60分钟；(2)中间涂层的涂覆，中间涂层涂料在洁净环境中涂覆，20～100℃下干燥5～120分钟；(3)耐磨涂层的涂覆，耐磨涂层涂料在洁净环境中涂覆，20～100℃下干燥30～300分钟，得到有机硅耐磨涂层处理的聚碳酸酯光学材料。本发明制备方法制得的硬质透明耐磨涂层具有优良的耐磨性能、耐候性能、光学性能，可明显提高聚碳酸酯光学材料的表面性能，延长其使用寿命，可应用于聚碳酸酯镜头、镜片等的表面改性。 | ||
| 搜索关键词： | 聚碳酸酯 光学材料 表面 有机硅 耐磨 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种聚碳酸酯光学材料表面有机硅耐磨涂层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)将基底涂料涂覆于聚碳酸酯光学材料表面，20～100℃下干燥2～60分钟；(2)将中间涂层涂料涂覆于步骤(1)得到的带有基底涂层的聚碳酸酯光学材料表面，20～100℃下干燥5～120分钟；(3)将耐磨涂层涂料涂覆于步骤(2)得到的带有中间涂层的聚碳酸酯光学材料表面，20～100℃下干燥30～300分钟，得到有机硅耐磨涂层处理的聚碳酸酯光学材料。
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