[发明专利]一种可后续加工的低辐射玻璃及其制造方法

摘要

一种可后续加工的低辐射玻璃的制造方法，包括：玻璃基片镀膜前的清洗、干燥处理和镀膜完成后的检验，其特征在于：采用真空磁控溅射镀膜工艺在玻璃上依次镀制：氮化硅(Si₃N₄)膜层、氧化锌锡(ZnSnOx)膜层、氧化镍铬(NiCrOx)膜层、银(Ag)膜层、氧化镍铬(NiCrOx)膜层、氧化锌锡(ZnSnO)膜层和氮化硅(Si₃N₄)膜层。本发明采用独特的膜层配置结构制造出的产品具有低辐射率，光学性能稳定、颜色多样，能在700℃高温下，进行钢化、热弯和弯钢化等强化处理；能完全满足长途运输、储存(储存时间可超过八个月)、能满足在异地加工、切割、掰片、磨边、钻孔、清洗等后续加工的要求，在这些过程中，产品不脱膜、不氧化，产品能推广到民用住宅。

主权项

1、一种可后续加工的低辐射玻璃的制造方法，包括：玻璃基片镀膜前的清洗、干燥处理和镀膜完成后的检验，其特征在于：采用真空磁控溅射镀膜工艺，在镀膜线配置高抽速的无油分子泵，背景真空在高真空3*10-6mbar以上，并按以下步骤在玻璃上镀制：(1)、在玻璃表面镀制氮化硅(Si3N4)基层电介质组合膜层(1)，采用中频电源加旋转在氩氮氛围中溅射沉积，功率为80kw-90kw，中频电源频率为40kHz，膜层厚度为35-40nm；(2)、在玻璃的氮化硅(Si3N4)基层电介质组合膜层(1)上镀制氧化锌锡(ZnSnOx)基层电介质组合膜层(2)，采用中频电源加旋转阴极在氩氧氛围中溅射沉积，功率为50kw-60kw，中频电源频率为40kHz，膜层厚度为10-15nm；(3)、在玻璃的氧化锌锡(ZnSnOx)基层电介质组合层(2)上镀制氧化镍铬(NiCrOx)阻挡膜层(1)，在氩氧氛围中溅射镍铬合金，功率为2kw，膜层厚度为2-3nm；(4)、在玻璃的氧化镍铬(NiCrOx)阻挡膜层(1)上镀制银(Ag)膜层，在氩气氛围中沉积，功率为2kw，膜层厚度为12nm；(5)、在玻璃的银(Ag)层上镀制氧化镍铬(NiCrOx)阻挡膜层(2)，在氩氧氛围中溅射镍铬合金，功率为2kw，膜层厚度为2-3nm；(6)、在玻璃的氧化镍铬(NiCrOx)阻挡膜层(2)上镀制氧化锌锡(ZnSnO)上层电介质组合膜层(1)，采用中频电源加旋转阴极在氩氧氛围中溅射沉积，功率为50kw-60kw，中频电源频率为40kHz，膜层厚度为10-15nm；(7)、在玻璃的氧化锌锡(ZnSnO)上层电介质组合膜层(1)上镀制氮化硅(Si3N4)上层电介质组合膜层(2)，采用中频电源加旋转在氩氮氛围中溅射沉积，功率为80kw-90kw，中频电源频率为40kHz，膜层厚度为35-40nm。