[发明专利]一种具有陷光结构的硅薄膜光电池无效

专利信息
申请号: 200710079627.0 申请日: 2007-02-28
公开(公告)号: CN101257055A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: 李德杰 申请(专利权)人: 李德杰
主分类号: H01L31/075 分类号: H01L31/075;H01L31/042;H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100084北京*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种具有陷光结构的硅薄膜光电池,属于太阳能利用领域。基本结构由下而上为玻璃基片、二氧化硅层、透明导电薄膜、P型半导体硅层、I型半绝缘硅层、N型半导体硅层、银和抗氧化金属组成的复合薄膜反射电极。在反射电极下面的硅层具有在低熔点金属非连续岛状薄膜保护下刻蚀形成的横向尺寸和厚度方向尺寸都小于300纳米的小岛状的起伏表面。本发明具有结构简单、效果好、适合规模化量产的特点,适合大面积硅薄膜光电池的应用。
搜索关键词: 一种 具有 结构 薄膜 光电池
【主权项】:
1. 一种具有陷光结构的硅薄膜光电池,基本结构由下而上为玻璃基片10、二氧化硅隔离层11、透明导电薄膜12、P型半导体硅层13、I型半绝缘硅层14、N型半导体硅层15、银和抗氧化金属组成的复合薄膜反射电极16,其特征在于:在所述的反射电极下面的硅层具有在低熔点金属非连续岛状薄膜保护下刻蚀形成的横向尺寸和厚度方向尺寸都小于300纳米的小岛状的起伏表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于李德杰,未经李德杰许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710079627.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top