[发明专利]具有表面保护层的液晶高分子膜的制造方法无效

专利信息
申请号: 200710085083.9 申请日: 2007-02-28
公开(公告)号: CN101256313A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: 谷本顺一郎 申请(专利权)人: 新日石液晶薄膜株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/1335;G02F1/133;C08J7/04;B32B27/06;B32B37/14
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈昕
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种具有表面保护层液晶高分子膜的制造方法,包含:在液晶高分子膜1的一侧面上层合透光性基板10的工序;在液晶高分子膜1的另一侧面上,一边使光固化型或者电子射线固化型的未固化的丙烯酸类树脂介于其间,一边层合表面张力40dyn/cm以下而且表面粗糙度算术平均粗糙度Ra为0.1μm以下、十点平均粗糙度Rz为1μm以下的保护膜20的工序;通过光或者电子射线的照射固化介于液晶高分子膜1以及保护膜20之间的上述丙烯酸类树脂,形成上述表面保护层25的工序。
搜索关键词: 具有 表面 保护层 液晶 高分子 制造 方法
【主权项】:
1. 一种具有表面保护层液晶高分子膜的制造方法,所述具有表面保护层液晶高分子膜具有液晶高分子膜、设置在上述液晶高分子膜的一侧面上的透光性基板、设置在上述液晶高分子膜的另一侧面上的包含光固化型或者电子射线固化型的丙烯酸类树脂的固化物的表面保护层,其特征在于具有:在上述液晶高分子膜的一侧面上层合上述透光性基板的工序;在上述液晶高分子膜的另一侧面上,一边使光固化型或者电子射线固化型的未固化的丙烯酸类树脂介于其间,一边层合表面张力40dyn/cm以下、而且表面粗糙度算术平均粗糙度Ra为0.1μm以下、十点平均粗糙度Rz为1μm以下的保护膜的工序;通过光或者电子射线的照射固化介于上述液晶高分子膜以及上述保护膜间的上述丙烯酸类树脂,形成上述表面保护层的工序。
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