[发明专利]抗蚀剂成分、形成抗蚀剂图案的方法、基板及其制造方法有效
| 申请号： | 200710091177.7 | 申请日： | 2007-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN101063816A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 金珍郁;南姸熙 | 申请（专利权）人： | LG.菲利浦LCD株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00;G02F1/1335;H01L27/12;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;梁挥 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于压印光刻工艺的抗蚀剂成分、采用该抗蚀剂成分形成抗蚀剂图案的方法、采用其制造的阵列基板以及制造该阵列基板的方法。由于在该抗蚀剂成分中包括UV固化树脂、添加剂以及促使与UV固化树脂接触的暴露层的化学接合的附着力促进剂，该抗蚀剂成分可以形成高分辨率的图案并且提高了模具的耐用性。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 成分 形成 图案 方法 及其 制造 | ||
【主权项】：
1、一种抗蚀剂成分，包括：UV固化树脂和添加剂；以及促使UV固化树脂和与该UV固化树脂接触的暴露层支架化学接合的附着力促进剂。
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