[发明专利]投影式光刻机

摘要

本发明公开了一种投影式光刻机，在掩膜版和投影透镜之间还包括四个全反射镜：第一个全反射镜的反射面与掩膜版平面相对且呈45度夹角，第二个全反射镜的反射面与第一个全反射镜的反射面相对，且与第一个全反射镜平行，第三个全反射镜的反射面与第二个全反射镜的反射面相对且成90度夹角，第四个全反射镜的反射面与第三个全反射镜的反射面相对，且与第二个全反射镜平行，上述第二个全反射镜和第三个全反射镜可以同时在与掩膜版平行的方向作平移。本发明在投影式光刻机原来的镜头组光路中，加入两对全反射镜片，通过精确调节其中一对全反射镜片的位置，改变掩膜版到投影透镜的物距，从而改变光刻图形的像的大小，从而达到改变光刻机倍率的目的。

主权项

1. 一种投影式光刻机，其光学系统包括特定的激光光源、光阑、聚光透镜、掩膜版、投影透镜，激光光源发出的光通过光阑、聚光透镜和掩膜版并经过投影透镜射向晶片，其特征在于，在掩膜版和投影透镜之间还包括四个全反射镜：第一个全反射镜的反射面与掩膜版平面相对且呈45度夹角，它接受从掩膜版平面上出射的光线；第二个全反射镜的反射面与第一个全反射镜的反射面相对，且与第一个全反射镜平行，它接受从第一个全反射镜面反射出的光线；第三个全反射镜的反射面与第二个全反射镜的反射面相对且成90度夹角，它接受第三个全反射镜反射出的光线；第四个全反射镜的反射面与第三个全反射镜的反射面相对，且与第二个全反射镜平行，它接受第三个全反射镜的反射光，并将该光线反射从而照射到投影透镜上，上述第二个全反射镜和第三个全反射镜可以同时在与掩膜版平行的方向作平移。