[发明专利]曝光装置和方法无效
| 申请号： | 200710094526.0 | 申请日： | 2007-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN101458455A | 公开（公告）日： | 2009-06-17 |
| 发明（设计）人： | 李承赫 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李 丽 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种曝光装置和方法，所述曝光方法包括：将具有第一方向布局图形的第一掩模版和具有第二方向布局图形的第二掩模版定位在掩模台上，所述掩模台具有支撑第一掩模版和第二掩模版所需的面积；将待曝光的晶圆定位在晶圆台上；将所述第一掩模版与所述待曝光的晶圆对准；对所述晶圆进行第一方向的曝光；将所述第二掩模版与所述待曝光的晶圆对准；对晶圆进行第二方向的曝光。所述曝光装置和方法省去了转换掩模版并将该掩模版与掩模台对准的步骤，因此可以减少曝光时间，提高生产效率和产品性能。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种曝光装置，包括：掩模台和晶圆台，其特征在于，所述掩模台具有支撑第一掩模版和第二掩模版所需的面积，所述第一掩模版具有第一方向布局图形，所述第二掩模版具有第二方向布局图形。
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