[发明专利]制造电极图案的方法无效

专利信息
申请号: 200710097927.1 申请日: 2007-04-18
公开(公告)号: CN101060033A 公开(公告)日: 2007-10-24
发明(设计)人: 李荣祐;赵廷珉;赵沆奎 申请(专利权)人: 三星电机株式会社
主分类号: H01G4/005 分类号: H01G4/005;H01C17/00;H01C17/28;H01F41/00;H01L21/28;B41M5/382
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;吴贵明
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种制造电极图案的方法包括:准备第一支撑膜;在第一支撑膜的一个表面上形成脱模剂图案,该脱模剂图案限定内部电极形成区域;通过使用薄膜技术在脱模剂图案上形成电极层;准备第二支撑膜;在第二支撑膜的一个表面上形成转印目标层;设置第一支撑膜的电极层和第二支撑膜的转印目标层,使得电极层和转印目标层彼此面对;热压接合设置成彼此面对的第一和第二膜,使得位于脱模剂图案上的电极层转印到转印目标层上;以及将第一和第二膜彼此分离。
搜索关键词: 制造 电极 图案 方法
【主权项】:
1.一种制造电极图案的方法,包括:准备第一支撑膜;在所述第一支撑膜的一个表面上形成脱模剂图案,所述脱模剂图案限定内部电极形成区域;通过使用薄膜技术,在所述脱模剂图案上形成电极层;准备第二支撑膜;在所述第二支撑膜的一个表面上形成转印目标层;将所述第一支撑膜的所述电极层和所述第二支撑膜的所述转印目标层设置成,使得所述电极层和所述转印目标层彼此面对;热压接合被设置成彼此面对的所述第一和第二膜,以使得设置在所述脱模剂图案上的所述电极层转印到所述转印目标层上;以及将所述第一和第二膜彼此分离。
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