[发明专利]紫外光照微纳图形气压压印和光刻两用复制装置

摘要

紫外光照微纳图形气压压印和光刻两用复制装置，包括主机大基板、压模移动台系统、均匀照明系统、压模架、压模、基片、对准系统、基片升降系统、承片调平台系统、花样镜、压镜和控制系统，在主机大基板上固定有压模移动台系统和在其内部的承片调平台系统，XY压模移动台上支撑有压模架和花样镜或压镜，吸附着压模或掩模，基片或硅片被吸附于承片调平台系统上，均匀照明系统位于压模的上方，对准系统连接在均匀照明系统的一侧，工作台系统和均匀照明系统的探测输出信号送至控制系统进行处理，用于控制。本发明具有微纳图形气压压印和光刻两方面的功能，且操作使用方便。

主权项

1、紫外光照微纳图形气压压印和光刻两用复制装置，其特征在于：它包括主机大基板(1)、压模移动台系统(2)、均匀照明系统(3)、压模架(4)、压模(5)或掩模(5’)、基片(6)或硅片(6’)、对准系统(7)、照明均匀性检测系统(8)、花样镜(15)或压镜(15′)和控制系统(9)；在主机大基板(1)上分别固定有压模移动台系统(2)和位于压模移动台系统一侧的照明均匀性检测系统(8)，其中照明均匀性检测系统(8)通过支架(13)与大基板(1)连接；压模移动台系统(2)安放于主机大基板(1)的中心，由位于底层的XY手动台(21)和通过连接座(10)与XY手动台(21)连接的XY压模移动台(22)组成，XY压模移动台(22)上支撑和吸附了压模架(4)，压模架(4)通过花样镜(15)或压镜(15’)吸附着压模(5)或掩模(5’)；压模(5)或掩模(5’)也位于XY压模移动台(22)和XY手动台(21)两工作台上，并随着它们的运动而移动，压模(5)或掩模(5’)的中心位于均匀照明系统(3)的照明光轴的下方，调节XY手动台(21)用于对压模(5)或掩模(5’)观察对准调整；基片(6)或硅片(6’)被吸附于位于压模移动台系统(2)内腔的基片升降系统(23)的承片调平台系统(24)上，其中心也正对照明系统(3)的照明光轴；均匀照明系统(3)通过垂直旋转轴(12)和支撑座(11)与主机大基板(1)连接，其照明光轴正位于压模架(4)、压模(5)或掩模(5’)及基片(6)或硅片(6’)的正上方，对准系统(7)连接在均匀照明系统(3)的一侧，均匀照明系统(3)和对准系统(7)整体可绕垂直旋转轴(12)在水平方向旋转，对准系统(7)可以前后移动，XY压模移动台(22)、均匀照明系统(3)和照明均匀性检测系统(8)的探测输出信号送入至控制系统(9)进行处理，同时控制系统(9)控制信号输出至XY压模移动台(22)和均匀照明系统(3)用于压模移动、Hg灯恒光强和光强积分快门的控制，在控制系统(9)控制下进行掩模移动和积分快门的开启与关闭，完成压印和曝光光刻。