[发明专利]背照式传感器及其形成方法有效

专利信息
申请号: 200710101189.3 申请日: 2007-05-09
公开(公告)号: CN101071818A 公开(公告)日: 2007-11-14
发明(设计)人: 许慈轩;杨敦年 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L21/822
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 陈晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种背照式传感器,包括:具有正面与背面的半导体基板;形成于该半导体基板的该正面上的多个像素;置于该半导体基板的该正面上方的介电层;以及根据该多个像素而配置的多个阵列区域。其中,至少第一、第二阵列区域具有彼此相异的辐射响应特性,例如,该第一阵列区域的结深大于该第二阵列区域的结深,或是该第一阵列区域的掺杂物浓度大于该第二阵列区域的掺杂物浓度。
搜索关键词: 背照式 传感器 及其 形成 方法
【主权项】:
1.一种背照式传感器,包括:半导体基板,具有正面与背面;多个像素,形成于该半导体基板的该正面上;介电层,置于该半导体基板的该正面上方;以及多个阵列区域,根据该多个像素而配置,其中至少两个该阵列区域具有彼此相异的辐射响应特性。
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